第五届国际先进光刻技术研讨会隆重召开 东方晶源董事长俞宗强博士受邀参会并发表主题演讲
2021年12月12-13日，第五届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）在广东佛山隆重召开。作为国内专注于高端光刻技术的研讨会，IWAPS大会吸引了来自光刻及其相关领域的国内外资深专家分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。东方晶源董事长及创始人俞宗强博士受邀参会并发表题为“A Novel Approach That Makes Yield More Predictable”的演讲，引发与会者的高度关注与热烈探讨。
本次大会为期两天，以线上线下互动方式展开，来自中国、美国、德国、日本、荷兰等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校的技术专家和学者分别就拟定的主题作特邀报告，深入分析光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案，包含先进节点的计算光刻技术、SMO、DTCO、EUV、工艺、量测、Deep Learning、光刻设备、材料等，在促进业内合作，开拓研发思路，解决技术难题，推动行业发展等方面意义深远。
作为在集成电路装备及相关领域深耕26年的资深专家，俞宗强博士受邀发表了题为“A Novel Approach That Makes Yield More Predictable”的主题演讲。俞宗强博士提出的解决方案基于Digital-Fab的DTCO（Design Technology Co-optimization）流程，通过从设计到制造的数据共享和综合优化，缩短研发周期并实现良率优化，创新性的解决了集成电路设计、制造领域面临的复杂性和痛点，从而在根本上解决芯片制造良率问题。该方案的提出为业界持续推动集成电路产业高速发展提供了新的思路。
参会者对该方案表示出了极大的兴趣，并与俞宗强博士做了深入探讨。俞宗强博士表示：通过制程数字化和可视化的技术攻关，东方晶源已经初步具备为良率提升系统提供认证和服务的关键技术。东方晶源愿与业界共同努力，通过联合攻关和协同创新，解决我国芯片制造关键问题，助力中国集成电路产业发展取得超越。
东方晶源成立至今，一直致力于解决集成电路制造良率管理问题，在计算光刻软件及电子束检测设备领域成绩斐然。旗下计算光刻软件OPC产品已在25纳米以下产线得到验证，产品性能具有国际竞争力。目前，正在进行28纳米的逻辑芯片的生产验证。该产品对我国摆脱相关技术管制具有重要意义。在设备领域，东方晶源数年磨剑，成功自主研发出电子束缺陷检测设备EBI和关键尺寸量测装备CD-SEM两款硬件产品，打破由国外巨头垄断的局面，填补我国半导体产业链相关空白，提振了业界对我国半导体设备领域的技术自信。
未来，东方晶源将继续在计算光刻、电子束检测等领域深耕，不断做大做强，与上下游企业携手进行技术攻关，解决更多国内集成电路制造的关键问题，为我国集成电路产业发展贡献力量！
