10月15日-16日，第八届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）在浙江嘉兴盛大开幕，来自国内外众多科研机构、高校、名企的近600位专家学者、企业家、青年学者齐聚一堂，分享各自在前沿课题上取得的新突破，展示学术新成果。

东方晶源作为国内计算光刻领域的先行者、领导者、探索者亮相本次大会，带来最新研发成果，与业界代表共同探讨最新技术动态。两天的会议中，东方晶源展台持续火爆，关于反向光刻ILT技术、PanGen DMC®等新突破和新产品成为大家竞相交流探讨的话题。

在专题报告环节，东方晶源技术专家作为大会的特邀报告人带来题为《PanGen DMC® ：AI powered solution for fast design manufacturability check》的报告。PanGen DMC®是东方晶源在年初围绕业界痛点问题推出的新产品，致力于使用户可以基于原始Design快速、精准估计该Design最终硅片上的形貌（Contour），进而提前预知设计版图存在的潜在风险。近期在国内某先进节点FAB内实测结果表明，东方晶源PanGen DMC®在全芯片尺度上预测结果与实际的差距在超过99%的版图位置上小于1nm。

在报告中，东方晶源技术专家就PanGen DMC®产品最为核心的D2C（Design To Contour）快速光刻反馈引擎、基于D2C的潜在热点检测、热点模型提高适应性等重点模块展开深入解读，展现出东方晶源在使用AI等新技术的领先性，以及创造性解决产业痛点问题的前瞻性。

截至目前，东方晶源在计算光刻领域已构建起全面且领先的技术体系，旗下计算光刻平台PanGen®已经形成八大产品矩阵，包括Model、DRC、SBAR、OPC、LRC、DPT、SMO、DMC，具备完整的计算光刻相关EDA工具链条，并已在国内各大Fab厂商广泛应用，量产掩模超6000张。同时，通过ILT技术革新、PanGen DMC®等新产品的推出，不断引领计算光刻的发展与变革，解决更多集成电路产业可制造性问题，为产业发展持续赋能。