东方晶源自2014年成立之初即创造性提出基于CPU+GPU混合算力构架实现的全芯片反向光刻技术（ILT）计算光刻解决方案，并基于此形成PanGen®良率综合优化产品。历经10年的开发与迭代，该产品已经广泛应用于国内主流逻辑和存储芯片制造商的工艺研发和量产中。

在这金秋送爽、收获满满的季节里，东方晶源走进国内顶尖学府之一的北京大学，成功举办了一场别开生面的校招宣讲会。此次活动面向2025届硕士、博士毕业生，为东方晶源与北大学子之间搭建了一个深入了解的桥梁。

东方晶源作为国内计算光刻领域的先行者、领导者、探索者亮相本次大会，带来最新研发成果，与业界代表共同探讨最新技术动态。

当半导体制造工艺演进到22nm及以下节点时，随着多重图形技术的引入，对不同工艺层之间套刻（Overlay）误差的要求变得越来越高。套刻测量技术可分为基于像面图像识别测量技术和基于衍射原理的DBO（Diffraction Based Overlay）测量技术。

2024年9月25日，第十二届（2024年）中国电子专用设备工业协会半导体设备年会、第十二届半导体设备与核心部件展示会（CSEAC 2024）在无锡隆重开幕。

作为本次大会铂金赞助企业、EDA²理事长单位，东方晶源精彩亮相第二届设计自动化产业峰会IDAS 2024。